中微半导体设备（上海）股份有限公司3月15日发布公告显示，自 2020 年 1 月 1 日至 2020 年 3 月 13 日，公司累计获得政府补助款项共计人民币 136,828,410.20 元。其中，与收益相关的政府补助为人民币 11,828.47 万元，与资产相关的政府补助为人民币 1,854.37 万元。

据了解，2019 年中微公司实现营收 19.47 亿元，同比增长 18.77%；实现净利润 1.89 亿元，同比增长 107.51%。而从 2020 年 1 月 1 日至 2020 年 3 月 13 日累计获得政府补贴 1.37 亿元，占中微公司 2019 年全年净利润的 73%。

中微半导体设备股份有限公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，为集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和高质量的服务。目前开发的产品以集成电路前道生产的等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备等关键设备为主，并已逐步开发应用于后道先进封装、MEMS、MiniLED、MicroLED 等领域的泛半导体设备产品，公司设备已经应用在台积电、中芯国际、海力士、长江存储等客户产线中。

值得提及的是，长江存储去年年底开始规模化采购半导体设备，2020 年，中微公司成功中标长江存储 9 台刻蚀设备订单，并中标中芯绍兴 IGBT 产线 2 台刻蚀设备。在集成电路产业中，先进集成电路大规模生产线的投资可达100亿美元，75%以上是半导体设备投资，而光刻机、等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中最重要、最大宗的三类设备，该市场一直主要由国外厂商主导，行业高度垄断，技术壁垒明显。成立伊始，中微公司就将目光瞄准了等离子体刻蚀设备领域。

崛起之路并非坦途，更何况竞争对手均为老牌国际巨头。截至2018年末，中微公司曾涉及四起海内外知识产权诉讼案件，涵盖两件专利案件和两件商业机密案件，最终公司未尝败绩，在诉讼中均达成和解或胜诉。这一结果与中微公司历来在研发保持高投入密不可分。2016年-2018年公司累计研发投入10.37亿元，约占营业收入的32%。

如今，中微公司经过15年的发展，公司等离子体刻蚀设备已在国际一线客户(主要为晶圆厂)从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用。

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